同方威視科技(北京)有限公司;同方威視技術股份有限公司;清華大學靳增雪獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉同方威視科技(北京)有限公司;同方威視技術股份有限公司;清華大學申請的專利放射性探測器的能量刻度確定方法、裝置、設備和介質獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN118501927B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202310134373.7,技術領域涉及:G01T7/00;該發明授權放射性探測器的能量刻度確定方法、裝置、設備和介質是由靳增雪;趙崑;吳瑤;胡春煊;李玉蘭;張彤設計研發完成,并于2023-02-09向國家知識產權局提交的專利申請。
本放射性探測器的能量刻度確定方法、裝置、設備和介質在說明書摘要公布了:本公開提供了一種放射性探測器的能量刻度確定方法、裝置、設備和介質,該方法包括:獲取多個已知核素的本底能譜,其中,本底能譜是放射性探測器對多個已知核素進行探測得到的;對本底能譜進行差分處理,得到道址?差分圖,其中,道址?差分圖包括從多個全能峰信息中確定的多個有效峰信息;根據道址?差分圖確定目標系數,其中,目標系數表征初始能量道址函數式中的一個刻度系數;根據道址?差分圖和初始能量道址函數式,確定目標能量道址函數式,其中,目標能量道址函數式表征放射性探測器的能量刻度。
本發明授權放射性探測器的能量刻度確定方法、裝置、設備和介質在權利要求書中公布了:1.一種放射性探測器的能量刻度確定方法,包括: 獲取多個已知核素的本底能譜,其中,所述本底能譜是所述放射性探測器對多個所述已知核素進行探測得到的; 對所述本底能譜進行差分處理,得到道址-差分圖,其中,所述道址-差分圖包括從多個全能峰信息中確定的多個有效峰信息; 根據所述道址-差分圖確定目標系數,其中,所述目標系數表征初始能量道址函數式中的一個刻度系數; 根據所述道址-差分圖和所述初始能量道址函數式,確定目標能量道址函數式,其中,所述目標能量道址函數式表征所述放射性探測器的所述能量刻度, 其中,所述根據所述道址-差分圖確定目標系數,包括:從所述道址-差分圖中確定目標核素的多個目標區間,其中,所述目標區間包括所述目標核素的多個有效峰信息;根據多個所述目標區間,確定所述目標系數, 所述根據所述道址-差分圖和所述初始能量道址函數式,確定目標能量道址函數式,包括:根據每個所述目標區間中與每個所述全能峰信息對應的道址和所述目標核素的已知全能峰能量,在道址-能量坐標系中構建多個坐標點;基于所述目標系數,根據多個所述坐標點對所述初始能量道址函數式進行求解,得到所述目標能量道址函數式。
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