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龍圖騰網(wǎng)獲悉東北電力大學(xué)申請的專利一種高選擇性鋰離子印跡通道聚電解質(zhì)復(fù)合膜的制備方法和應(yīng)用獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN116531975B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-05發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202310528145.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B01D71/60；該發(fā)明授權(quán)一種高選擇性鋰離子印跡通道聚電解質(zhì)復(fù)合膜的制備方法和應(yīng)用是由李正;李連杰;劉禹霄;宋鑫;李文可設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-05-11向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種高選擇性鋰離子印跡通道聚電解質(zhì)復(fù)合膜的制備方法和應(yīng)用在說明書摘要公布了：一種高選擇性鋰離子印跡通道聚電解質(zhì)復(fù)合膜的制備方法和應(yīng)用，它涉及一種聚電解質(zhì)復(fù)合膜的制備方法。本發(fā)明的目的是要解決現(xiàn)有方法制備的離子印跡膜具有較低的吸附量和繁瑣的制備過程，制約了其進(jìn)一步發(fā)展的問題。方法：一、制備PAN水解膜、聚合液和聚陰離子溶液；二、制備交聯(lián)聚乙烯亞胺基二硫代氨基甲酸鹽；三、自組裝多層復(fù)合膜；四、制備高選擇性鋰離子印跡通道聚電解質(zhì)復(fù)合膜。一種高選擇性鋰離子印跡通道聚電解質(zhì)復(fù)合膜應(yīng)用于鋰離子浸出液中提取鋰。本發(fā)明運(yùn)用離子印跡通道的篩分效應(yīng)和聚電解質(zhì)層的靜電排斥效應(yīng)協(xié)同作用，提高了復(fù)合膜對目標(biāo)離子的選擇透過性。本發(fā)明制備過程簡單，成本低廉，便于工業(yè)化生產(chǎn)。

本發(fā)明授權(quán)一種高選擇性鋰離子印跡通道聚電解質(zhì)復(fù)合膜的制備方法和應(yīng)用在權(quán)利要求書中公布了：1.一種高選擇性鋰離子印跡通道聚電解質(zhì)復(fù)合膜的制備方法，其特征在于該制備方法具體是按以下步驟完成的： 一、制備PAN水解膜、聚合液和聚陰離子溶液： ①、將聚丙烯腈超濾膜作為基膜，浸沒在NaOH溶液中，再加熱至60℃～65℃，在60℃～65℃的NaOH溶液中水解，得到PAN水解膜； ②、將聚乙烯亞胺和PbCl2溶于0.5molLNaCl溶液中，得到混合液，混合液中Pb2+與聚乙烯亞胺進(jìn)行聚合形成聚合液； ③、將聚丙烯酸溶于0.5molLNaCl中，得到聚陰離子溶液； 二、將聚合液與無水乙醇加入到60℃～65℃的油浴鍋中，攪拌均勻，再加入環(huán)氧氯丙烷，持續(xù)在60℃～65℃下攪拌反應(yīng)2h～3h，攪拌反應(yīng)期間分次加入氰基硼氫化鈉；攪拌反應(yīng)結(jié)束后將反應(yīng)溫度降至室溫，再加入二硫化碳，得到反應(yīng)產(chǎn)物；對反應(yīng)產(chǎn)物進(jìn)行超聲，再抽濾，洗滌，干燥，得到交聯(lián)聚乙烯亞胺基二硫代氨基甲酸鹽； 三、自組裝多層復(fù)合膜： ①、在PAN水解膜上倒入聚陰離子溶液，沉積一段時(shí)間，把PAN水解膜上的聚陰離子溶液傾出，再使用去離子水洗掉膜表面的游離聚電解質(zhì)，最后用氮?dú)獯蹈桑玫?層PAA； ②、將交聯(lián)聚乙烯亞胺基二硫代氨基甲酸鹽無水乙醇溶液倒入在PAN水解膜上，沉積一段時(shí)間，把PAN水解膜上的溶液傾出，再使用去離子水洗掉膜表面的游離聚電解質(zhì)，最后用氮?dú)獯蹈桑玫?層PEI-CS2； ③、循環(huán)步驟三①～②0次～2次或循環(huán)步驟三①～②0次～2次后再循環(huán)步驟三②1次，得到所需層數(shù)的聚電解質(zhì)自組裝多層復(fù)合膜； 四、首先將所需層數(shù)的聚電解質(zhì)自組裝多層復(fù)合膜在室溫和空氣中干燥5min～10min，然后將復(fù)合膜浸入到質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2％～5％的環(huán)氧氯丙烷溶液中交聯(lián)；反應(yīng)終止后冷卻至室溫，靜置脫泡，再將復(fù)合膜浸泡在0.1molL-1的乙二胺四乙酸二鈉鹽溶液中多次振蕩洗滌，直至洗滌液中檢測不出Pb2+為止，最后將復(fù)合膜在室溫下通風(fēng)晾干，得到高選擇性鋰離子印跡通道聚電解質(zhì)復(fù)合膜。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人東北電力大學(xué)，其通訊地址為：132012 吉林省吉林市船營區(qū)長春路169號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。