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龍圖騰網(wǎng)獲悉上海交通大學(xué)申請(qǐng)的專利具有可編程界面的仿電路可編程微流控復(fù)合裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN118649712B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-05發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202410682698.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B01L3/00；該發(fā)明授權(quán)具有可編程界面的仿電路可編程微流控復(fù)合裝置是由胡松濤;楊帥;丁璽佳;史熙;彭志科設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-05-29向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本具有可編程界面的仿電路可編程微流控復(fù)合裝置在說(shuō)明書摘要公布了：一種具有可編程界面的仿電路可編程微流控復(fù)合裝置，包括：由下而上依次設(shè)置的基底層、二元閥控制層、流道層、腔室層和薄膜層，其中：二元閥控制層與基底層之間、流道層與腔室層之間、腔室層與薄膜層之間均采用等離子體表面處理并精準(zhǔn)鍵合在一起，腔室層與流道層之間對(duì)應(yīng)空腔和流道的位置設(shè)有通孔，通過(guò)二元閥控制層的二元閥的組合陣列將氣體送入所選的任一流道，實(shí)現(xiàn)單獨(dú)控制。本發(fā)明采用類似于大規(guī)模電子集成電路的微流控集成LSI技術(shù)以及多層軟光刻工藝，達(dá)到可以精心編程界面形貌路徑和梯度的效果，可實(shí)時(shí)編程，以實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)的液滴操控，具有精準(zhǔn)操控液滴、可編程的靈活性強(qiáng)、高度集成，操作簡(jiǎn)單、響應(yīng)速度快等優(yōu)點(diǎn)。

本發(fā)明授權(quán)具有可編程界面的仿電路可編程微流控復(fù)合裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種具有可編程界面的仿電路可編程微流控復(fù)合裝置，其特征在于，包括：由下而上依次設(shè)置的基底層、二元閥控制層、流道層、腔室層和薄膜層，其中：二元閥控制層與基底層之間、流道層與腔室層之間、腔室層與薄膜層之間均采用等離子體表面處理并精準(zhǔn)鍵合在一起，腔室層與流道層之間對(duì)應(yīng)空腔和流道的位置設(shè)有通孔，通過(guò)二元閥控制層的二元閥的組合陣列將氣體送入所選的任一流道，實(shí)現(xiàn)各個(gè)單元獨(dú)立控制； 所述的精準(zhǔn)鍵合，具體包括：薄膜層與腔室層鍵合，形成封閉的柔性頭部和剛性底部以及剛性側(cè)壁的封閉腔室；流道層與二元閥控制層之間使用等離子體精準(zhǔn)垂直鍵合，使得在二元閥寬的部分與流道接觸的地方形成閥門；二元閥控制層和基底層之間采用等離子體鍵合，基底層用于對(duì)二元閥控制層通道進(jìn)行密封； 所述的二元閥控制層為二進(jìn)制模式排列的若干微流控微閥，采用有機(jī)硅彈性體聚二甲基硅氧烷制成二元閥結(jié)構(gòu)的薄膜芯片，在每組二元閥的一端打孔，并連接多路微流控正、負(fù)壓力泵以控制二元閥控制層，具體為：利用微流控正壓力泵和微流控負(fù)壓力泵分別控制可編程界面的結(jié)構(gòu)的進(jìn)氣和排氣； 所述的流道層包括：一條輸入流道以及并聯(lián)的若干個(gè)分支流道點(diǎn)； 所述的單元，包括：一個(gè)流道層的分支流道點(diǎn)以及依次位于其上的部分腔室層和部分薄膜層。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人上海交通大學(xué)，其通訊地址為：200240 上海市閔行區(qū)東川路800號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。