株式會(huì)社電裝河野高博獲國(guó)家專(zhuān)利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉株式會(huì)社電裝申請(qǐng)的專(zhuān)利半導(dǎo)體裝置及其制造方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN110730905B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為:201880038599.4,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G01L9/00;該發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體裝置及其制造方法是由河野高博;與倉(cāng)久則;藤原剛設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2018-05-11向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。
本半導(dǎo)體裝置及其制造方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了:半導(dǎo)體裝置具備第1基板11、第2基板12、氧化膜13和保護(hù)膜14。第1基板具有第1面11c。第2基板具有一部分通過(guò)大氣壓等離子體活性而與第1面的一部分相接合的第2面12b。氧化膜形成于第1面。保護(hù)膜層疊在氧化膜的與第1基板相反側(cè)的表面上。半導(dǎo)體裝置的制造方法具備如下工序:在形成了保護(hù)膜后,在大氣中對(duì)第1面實(shí)施等離子體活性處理。
本發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體裝置及其制造方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了:1.一種半導(dǎo)體裝置,其特征在于, 具備: 第1基板11,具有第1面11c; 第2基板12,具有一部分通過(guò)大氣壓等離子體活性而與上述第1面的一部分相接合的第2面12b; 氧化膜13,形成于上述第1面;以及 保護(hù)膜14,層疊在上述氧化膜的與上述第1基板相反側(cè)的表面上; 上述氧化膜和上述保護(hù)膜的總膜厚是成為超過(guò)上述第1基板的帶電量的絕緣耐壓的膜厚。
如需購(gòu)買(mǎi)、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類(lèi)似專(zhuān)利技術(shù),可聯(lián)系本專(zhuān)利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人株式會(huì)社電裝,其通訊地址為:日本愛(ài)知縣;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話(huà)0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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