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龍圖騰網(wǎng)獲悉ASM IP 控股有限公司申請的專利具有中間腔室的半導(dǎo)體氣相蝕刻裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN112242322B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202010684945.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)具有中間腔室的半導(dǎo)體氣相蝕刻裝置是由T·E·布隆伯格;V·沙爾瑪設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-07-16向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本具有中間腔室的半導(dǎo)體氣相蝕刻裝置在說明書摘要公布了：公開一種半導(dǎo)體氣相蝕刻裝置。所述裝置可以包括介于蒸氣源與反應(yīng)腔室之間的中間腔室。可以將蝕刻反應(yīng)物蒸氣從所述中間腔室以脈沖形式遞送到所述反應(yīng)腔室以蝕刻基材。

本發(fā)明授權(quán)具有中間腔室的半導(dǎo)體氣相蝕刻裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種從基材移除材料層的半導(dǎo)體蝕刻裝置，其包含： 反應(yīng)腔室； 在所述反應(yīng)腔室上游并且與其流體連通的中間腔室，所述中間腔室被配置成將蝕刻反應(yīng)物蒸氣遞送到所述反應(yīng)腔室中； 在所述中間腔室上游并且與其流體連通的蝕刻反應(yīng)物蒸氣的源，所述源被配置成將所述蝕刻反應(yīng)物蒸氣遞送到所述中間腔室中； 沿介于所述源與所述中間腔室之間的反應(yīng)物供應(yīng)管線安置的第一閥，所述第一閥被配置成調(diào)節(jié)流向所述中間腔室的所述蝕刻反應(yīng)物蒸氣的流； 沿介于所述中間腔室與所述反應(yīng)腔室之間的反應(yīng)物供應(yīng)管線安置的第二閥，所述第二閥被配置成調(diào)節(jié)流向所述反應(yīng)腔室的所述蝕刻反應(yīng)物蒸氣的流； 在所述第二閥和所述反應(yīng)腔室之間的第三閥，所述第三閥具有多個可調(diào)流導(dǎo)率，其中，所述第三閥包括配置成調(diào)節(jié)到期望流導(dǎo)率的針閥；和 控制系統(tǒng)，所述控制系統(tǒng)被配置成控制所述第一閥、所述第二閥和所述反應(yīng)腔室的操作，所述控制系統(tǒng)被配置成至少部分地基于所述第三閥的流導(dǎo)率來控制所述蝕刻反應(yīng)物蒸氣的分壓； 其中，所述控制系統(tǒng)被配置成通過將所述反應(yīng)物蒸氣以脈沖形式遞送到所述反應(yīng)腔室中來控制材料層從基材的移除； 其中，在第一蝕刻模式中，控制系統(tǒng)配置成： 在每個脈沖中指示所述第一閥閉合并指示所述第二閥開放，以將所述中間腔室中的僅一部分量的所述蝕刻反應(yīng)物蒸氣轉(zhuǎn)移到所述反應(yīng)腔室中，所述一部分量基本上小于全部量， 將反應(yīng)腔室中的蝕刻反應(yīng)物蒸汽的壓力線性增加到第一壓力水平，以及 在達(dá)到第一壓力水平后，線性降低反應(yīng)腔室中蝕刻反應(yīng)物蒸汽的壓力； 其中，在第二蝕刻模式中，所述控制系統(tǒng)被配置成: 在每個脈沖中指示所述第一閥閉合并指示所述第二閥開放，以將所述中間腔室中大體上全部量的所述蝕刻反應(yīng)物蒸氣轉(zhuǎn)移到所述反應(yīng)腔室中， 將所述反應(yīng)腔室中的所述蝕刻反應(yīng)物蒸汽的壓力線性增加到高于所述第一壓力水平的第二壓力水平，以及 在達(dá)到第二壓力水平后，線性降低反應(yīng)腔室中蝕刻反應(yīng)物蒸汽的壓力；和 其中，在第三蝕刻模式中，所述控制系統(tǒng)被配置成: 在每個脈沖期間同時指示所述第一閥開放和所述第二閥開放，每個脈沖具有不同于第一類型的第三類型和第二類型，每個脈沖將反應(yīng)腔室中的蝕刻反應(yīng)物蒸汽的壓力增加到第三壓力水平， 在達(dá)到第三壓力水平之后，將反應(yīng)腔室中的蝕刻反應(yīng)物蒸汽的壓力保持在第三壓力水平并經(jīng)過一段時間，以及 降低反應(yīng)腔室中蝕刻反應(yīng)物蒸汽的壓力。

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