東莞市眾嘉印刷有限公司汪永新獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東莞市眾嘉印刷有限公司申請的專利一種高性能柔性覆晶薄膜獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119684659B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202411850362.X,技術領域涉及:C08J7/12;該發明授權一種高性能柔性覆晶薄膜是由汪永新;劉建河;邵自立設計研發完成,并于2024-12-16向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種高性能柔性覆晶薄膜在說明書摘要公布了:本申請涉及覆晶薄膜的技術領域,公開了一種高性能柔性覆晶薄膜,所述柔性覆晶薄通過以下步驟制備得到:S1、使用含有環氧基的硅烷偶聯劑對柔性基底進行表面改性后,再將葡聚糖接枝到柔性基底表面;S2、使用交聯劑對柔性基底表面的葡聚糖進行交聯,得到第一改性柔性基底;S3、將得到的第一柔性改性基底浸泡于銀離子溶液中進行反應,然后再將第一改性柔性基底表面的銀離子還原為銀,得到第二改性柔性基底;S4、將得到的第二柔性改性基底進行電鍍,以在第二柔性基底表面電鍍上銀層,從而得到第三改性柔性基底;S5、將得到的第三改性柔性基底依次進行光刻工藝和刻蝕工藝,得到所述柔性覆晶薄膜。本申請能夠提高柔性覆晶薄膜的穩定性。
本發明授權一種高性能柔性覆晶薄膜在權利要求書中公布了:1.一種高性能柔性覆晶薄膜,其特征在于:所述柔性覆晶薄通過以下步驟制備得到: S1、使用含有環氧基的硅烷偶聯劑對柔性基底進行表面改性后,再將葡聚糖接枝到柔性基底表面;所述葡聚糖的分子量為6000-10000; S2、使用交聯劑對柔性基底表面的葡聚糖進行交聯,得到第一改性柔性基底; S3、將得到的第一柔性改性基底浸泡于銀離子溶液中進行反應,再依次進行清洗和干燥,然后再將第一改性柔性基底表面的銀離子還原為銀,從而在柔性基底表面負載銀顆粒層,得到第二改性柔性基底; S4、將得到的第二柔性改性基底表面作為陰極,純銀作為陽極,在電鍍液中進行電鍍,以在第二柔性基底表面電鍍上銀層,清洗,干燥,從而得到第三改性柔性基底; S5、將得到的第三改性柔性基底依次進行光刻工藝和刻蝕工藝,得到所述柔性覆晶薄膜。
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