精工愛普生株式會社廣久保望獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉精工愛普生株式會社申請的專利用于分光測定裝置的方法、分光測定系統(tǒng)、及存儲介質(zhì)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN114659631B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202111575468.X,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G01J3/26;該發(fā)明授權(quán)用于分光測定裝置的方法、分光測定系統(tǒng)、及存儲介質(zhì)是由廣久保望設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2021-12-21向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本用于分光測定裝置的方法、分光測定系統(tǒng)、及存儲介質(zhì)在說明書摘要公布了:一種用于分光測定裝置的方法、分光測定系統(tǒng)、及存儲介質(zhì),在獲取多個(gè)分光圖像時(shí),即使是分光測定裝置和測定對象的相對位置產(chǎn)生偏移時(shí),也能夠抑制該偏移的影響。所述方法具備:第一步驟,確定通過所述分光元件獲取的所述多個(gè)分光圖像中第一分光圖像、和所述第一分光圖像以外的至少一個(gè)的第二分光圖像之間的共同的特征點(diǎn);第二步驟,檢測所述第一分光圖像和所述第二分光圖像之間的相對位置錯(cuò)位量;以及第三步驟,所檢測出的所述相對位置錯(cuò)位量,進(jìn)行所述第一分光圖像和所述第二分光圖像之間的定位,在所述第三步驟中進(jìn)行的定位包括:根據(jù)所述共同的特征點(diǎn),相對于所述第一分光圖像的位置校正所述第二分光圖像的位置。
本發(fā)明授權(quán)用于分光測定裝置的方法、分光測定系統(tǒng)、及存儲介質(zhì)在權(quán)利要求書中公布了:1.一種用于分光測定裝置的方法,其特征在于, 所述分光測定裝置具備: 分光元件,能夠變更要選擇的光的波長,對來自對象物的光進(jìn)行分光;以及 攝像元件,分別接受通過所述分光元件被分光成多種波長的光,獲取多個(gè)分光圖像, 所述方法包括: 第一步驟,確定通過所述分光元件獲取的所述多個(gè)分光圖像中第一分光圖像、和所述第一分光圖像以外的至少一個(gè)的第二分光圖像之間的共同的特征點(diǎn); 第二步驟,檢測所述第一分光圖像和所述第二分光圖像之間的相對位置錯(cuò)位量;以及 第三步驟,根據(jù)所檢測出的所述相對位置錯(cuò)位量,進(jìn)行所述第一分光圖像和所述第二分光圖像之間的定位, 在所述第三步驟中進(jìn)行的定位包括:根據(jù)所述共同的特征點(diǎn),相對于所述第一分光圖像的位置校正所述第二分光圖像的位置, 與所述第一分光圖像對應(yīng)的所述光的第一透射峰值的中心波長、和與所述第二分光圖像對應(yīng)的所述光的第二透射峰值的中心波長之間的間隔,是所述第一透射峰值的第一半值總寬或者所述第二透射峰值的第二半值總寬的2倍以下,所述第一分光圖像的波峰底部的波形的一部分與所述第二分光圖像的波峰底部的波形的一部分重疊。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人精工愛普生株式會社,其通訊地址為:日本東京;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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