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龍圖騰網獲悉京東方科技集團股份有限公司申請的專利轉移基板、轉移設備及轉移方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114628309B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210187775.9，技術領域涉及：H01L21/683；該發明授權轉移基板、轉移設備及轉移方法是由王飛;張笑;谷新;梁軒;趙欣欣設計研發完成，并于2022-02-28向國家知識產權局提交的專利申請。

本轉移基板、轉移設備及轉移方法在說明書摘要公布了：本申請實施例提供一種轉移基板、轉移設備及轉移方法，轉移基板包括基底和設置于基底一側的變形層，變形層包括至少一個變形單元，變形單元遠離基底的側面在轉移微型器件時與微型器件接觸；變形單元包括光致變形材料，具有第一狀態和第二狀態；變形單元處于第一狀態相較于第二狀態具有與微型器件更大的接觸面積；在光照作用下，變形單元自第一狀態轉換為第二狀態。如此設計，變形單元與微型器件的接觸面積變小，而接觸面積的減小，使得變形單元與微型器件的粘結面積減小，黏力下降，從而使微型器件更為容易地脫離變形單元，完成微型器件轉移。因為光輻照變形是一種非接觸的、快速的、可控的變形方法，能夠實現快速，高效的微型器件轉移。

本發明授權轉移基板、轉移設備及轉移方法在權利要求書中公布了：1.一種轉移基板，其特征在于，包括基底和設置于所述基底一側的變形層，所述變形層包括至少一個變形單元，所述變形單元遠離所述基底的側面在轉移微型器件時與所述微型器件接觸；所述變形單元包括光致變形材料，具有第一狀態和第二狀態；所述變形單元處于所述第一狀態相較于所述第二狀態具有與所述微型器件更大的接觸面積；在光照作用下，所述變形單元自所述第一狀態轉換為所述第二狀態； 所述基底的一側設置有支撐層，所述支撐層包括與所述變形單元對應的支撐凸塊，所述變形單元設置于所述支撐凸塊；處于所述第一狀態的所述變形單元在向所述基底的正投影中，所述變形單元投影面積大于所述支撐凸塊；所述變形單元在光照作用下，相對于所述支撐凸塊向遠離所述基底的一側彎曲； 其中，所述變形單元處于所述第一狀態的曲率小于處于所述第二狀態的曲率；在所述第二狀態時，所述變形單元位于所述支撐凸塊外周的部分向遠離所述基底的一側彎曲。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人京東方科技集團股份有限公司，其通訊地址為：100015 北京市朝陽區酒仙橋路10號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。