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龍圖騰網(wǎng)獲悉中南鉆石有限公司申請的專利一種降低單晶金剛石外延襯底偏向角度的加工裝置及方法獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產(chǎn)權局授予，授權公告號為：CN117161959B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202311238737.2，技術領域涉及：B24B37/005；該發(fā)明授權一種降低單晶金剛石外延襯底偏向角度的加工裝置及方法是由劉乾坤;張國凱;郭崇;劉厚盛;薛晨陽;吳玲設計研發(fā)完成，并于2023-09-25向國家知識產(chǎn)權局提交的專利申請。

本一種降低單晶金剛石外延襯底偏向角度的加工裝置及方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種降低單晶金剛石外延襯底偏向角度的加工裝置及方法，屬于晶體加工領域；首先采用晶體定向儀確定待矯正晶面的偏離角度，通過調(diào)節(jié)定向拋光偏角修正設備的精密角度控制儀固定待矯正樣品的位置與角度；隨后根據(jù)偏角大小，選用合適粒度的金剛石拋光液，并完成自動壓力控制系統(tǒng)的參數(shù)設定，包括但并不限于拋光壓力與拋光時間；最后將已完成矯正的晶面作為高品質(zhì)CVD金剛石外延生長襯底；本發(fā)明，可保證了襯底晶向的準確性和一致性，顯著降低外延層的殘余應力與內(nèi)部缺陷，提高金剛石的晶體質(zhì)量，且操作簡單、適用范圍廣泛。

本發(fā)明授權一種降低單晶金剛石外延襯底偏向角度的加工裝置及方法在權利要求書中公布了：1.一種降低單晶金剛石外延襯底偏向角度的加工裝置，其特征在于：包括拋光盤、載樣盤以及精密調(diào)角控制器，且載樣盤限位放置于限位裝置中而限位裝置通過第一水平桿與精密調(diào)角控制器連接； 所述精密調(diào)角控制器包括第二水平桿以及間隔設于第二水平桿下方的壓縮裝置以及微型升降裝置，且第二水平桿與第一水平桿垂直固接，且壓縮裝置布設于距固接點距離d1處，而微型升降裝置布設于距固接點距離d2處； 所述限位裝置上開設有上內(nèi)凹槽和下內(nèi)凹槽，且下內(nèi)凹槽開設于上內(nèi)凹槽的底部，而載樣盤對應配設于凹槽內(nèi)且其上端面凸出上內(nèi)凹槽設置，其下端部插設于下內(nèi)凹槽中并延伸至下內(nèi)凹槽外設置； 待矯正的單晶片對應配設在載樣盤的下端部。

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