福州大學楊黃浩獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉福州大學申請的專利一種基于X射線激發的紫外發光長余輝材料及其在高機密性X射線成像加密上的應用獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN117511545B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202311466202.0,技術領域涉及:C09K11/85;該發明授權一種基于X射線激發的紫外發光長余輝材料及其在高機密性X射線成像加密上的應用是由楊黃浩;楊志堅;啜文睿;張珍珍;陳小豐;陳秋水設計研發完成,并于2023-11-07向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種基于X射線激發的紫外發光長余輝材料及其在高機密性X射線成像加密上的應用在說明書摘要公布了:本發明涉及光學成像領域中的X射線成像領域,具體涉及一種基于X射線激發的紫外發光長余輝材料、制備方法及其在高機密性X射線成像加密上的應用。首先將鑭系摻雜的稀土氟化物納米閃爍體NaLuF4Gd3+Ce3+與硅膠混合制備薄膜,信息通過X射線輻照后存儲在膜中,解密通過涂覆一層鈣鈦礦并且80℃加熱實現。本發明研究的鑭系稀土長余輝納米粒子具有肉眼無法察覺的純紫外發光,可以實現高保密性X射線成像加密;由閃爍體納米粒子制備的柔性記憶膜能夠實現彎曲物體的三維加密,具有高分辨率和良好的回收性;同時通過本發明技術存儲的加密信息可以安全的存儲在膜中7天,并通過鈣鈦礦進行光學解碼。
本發明授權一種基于X射線激發的紫外發光長余輝材料及其在高機密性X射線成像加密上的應用在權利要求書中公布了:1.一種基于X射線激發的紫外發光長余輝材料β-NaLuF4:x%Ln在制備高保密性X射線成像加密解密裝置中的應用,其特征在于,將鑭系摻雜的稀土氟化物納米閃爍體β-NaLuF4:x%Ln與硅膠混合制備薄膜,作為信息存儲膜,信息通過X射線輻照后存儲在膜中,解密通過涂覆一層鈣鈦礦并且80℃加熱實現;所述Ln為Gd;所述x%為摻雜的稀土離子摻雜量,x%為5%~30%。
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